集成电容是现代集成电路中常用的一种被动元件，其作用是存储电荷以及在电路中实现滤波、隔直等功能。在集成电路中，两种常见的集成电容结构是MOS电容和平板电容。

MOS电容是通过金属-绝缘体-半导体结构来实现的，其中绝缘体一般采用氧化物。MOS电容的优点是具有较高的电容密度，占用面积小，适合在集成电路中大规模集成和实现高度集成度。此外，由于MOS电容可以通过改变栅极与衬底之间的电压来控制电容大小，因此具有较高的可调性。

而平板电容则是通过金属层和绝缘层来实现，金属层一般位于绝缘层的两侧。平板电容的优点是制作工艺简单，成本较低，但是相对于MOS电容来说，电容密度较低，占用面积较大。因此在集成电路中需要较多的平板电容时，可能会导致电路面积过大的问题。

在设计集成电路时，需要对MOS电容和平板电容进行分析，根据实际需求选择合适的电容结构。对于需要高度集成度和可调性的电路，可以选择MOS电容；而对于成本考虑较多的电路，可以选择平板电容。在实际应用中，还可以通过组合使用MOS电容和平板电容来实现更灵活的电路设计。

总的来说，集成电容在现代集成电路中起着重要的作用，不同的电容结构有着各自的优点和适用场景。通过对MOS电容和平板电容的分析，可以更好地选择合适的电容结构，实现电路设计的高效性和灵活性。