在集成电路设计中，NMOS（N型金属氧化物半导体场效应晶体管）和PMOS（P型金属氧化物半导体场效应晶体管）是两种最常用的晶体管类型。然而，很多情况下我们会发现NMOS比PMOS用得多，这究竟是为什么呢？

首先，NMOS比PMOS用得多的一个重要原因是在制造过程中NMOS的制作技术更为简单。NMOS的制作过程相对PMOS来说更加容易控制，因为制造NMOS晶体管所需的p型衬底可以通过掺杂少量的杂质实现。这样就大大简化了制造工序，减少了成本和时间。同时，NMOS晶体管在工作时的导通性能更好，速度更快，功耗更低，这也为NMOS在集成电路中的应用提供了更多的优势。

另外，NMOS的特性也更适合数字电路设计。在数字电路中，常常需要高的开关速度和较低的功耗。而NMOS在这方面有着明显的优势，因为它的导通电阻较小，速度较快，而且在关断状态下几乎没有漏电流，功耗较低。相比之下，PMOS在这些方面相对逊色一些，因此在很多数字电路中更多选择使用NMOS。

此外，NMOS还有一个明显的优势是它的电压波动对其性能的影响较小。NMOS的阈值电压通常较低，而PMOS的阈值电压较高，这就导致NMOS在电压波动较大的环境下具有更好的适应能力。这使得NMOS在很多场合下能够更加稳定可靠地工作。

综上所述，NMOS比PMOS用得多的原因主要是因为其制作工艺简单、导通性能好、功耗低、适合数字电路设计等方面的优势。虽然在某些特定应用中PMOS也有其独特的优势，但总体来说NMOS在实际应用中更为普遍。当然，在实际设计中还需根据具体的应用需求来选择适合的晶体管类型。