半导体工业一直以来都是全球高科技产业中非常重要的一员，然而目前半导体工业所面临的问题也越来越大。由于半导体的发展速度已经超越了传统的摩尔定律，因此当代的 leading edge 半导体生产已经需要远超传统工艺线的精纤制造技术。

EUV 光刻机那么就是在这个背景下应运而生，作为半导体制造业的印钞机，它不仅能够提高半导体芯片的制造速度，还能有效降低制造成本。在半导体芯片的成本中，光刻机使用的光刻英寸产生的费用也是相当可观的。

然而，传统的光刻机存在很多瓶颈，比如无法在凝汽层场的恶劣环境下使用，而且还存在着不同区域的分辨率不同的问题。在工艺线的发展中，这些瓶颈已经不再可承受。每年只能进行一次工艺升级的生产线大幅制约了半导体业的发展速度和竞争力。

而作为目前最高级的光刻机，EUV 光刻机在继承传统光刻机的基础上，应用了极端紫外光（EUV）技术。这种技术的波长为 13.5 纳米，是可见光波长的四十倍，能够实现更高的分辨率和更快的制造速度。因此只有通过这种技术的革新才能让半导体工业实现生产线的跨越性升级。

EUV 光刻机的各个部分都是由非常复杂的零部件组成。整个机器的装配过程是非常异乎寻常的，令人拍手称赞的巨大视觉效果，从机械部分的各种几何构造到各种高精度的控制系统都是经过设计师的大量优化工作。这也是为什么每一台 EUV 光刻机导致了如此之高的研发和制造成本的原因所在。

总之，EUV 光刻机的出现对于半导体行业来说是一次重大突破与飞跃，它将逐渐取代传统光刻机，成为半导体生产中不可或缺的先进技术。